ナノテック株式会社は
SiC・GaN枚葉洗浄装置の革新を目指します
自然との調和を尊重しながら、パワー半導体を含む
化合物半導体分野の未来を切り拓きます。
自然との調和を尊重しながら、パワー半導体を含む
化合物半導体分野の未来を切り拓きます。
ナノテック株式会社は、パワー半導体を含む化合物半導体産業における洗浄装置のリーディングカンパニーを目指しています。 数十年にわたってウエハ洗浄の研究と開発を続けてきた研究者たちが集結し、失敗から学び、さらに優れた洗浄装置の開発に取り組んでいます。
数十年にわたりウエハ洗浄技術に精通した技術者が在籍しており、最先端の技術を駆使して高品質の洗浄装置を開発しています。 失敗を徹底的に分析し、その知見を基により良い製品を生み出すための改良を続けています。
当社は、国内外の大手企業と密接に連携し、最新の市場ニーズに対応した洗浄サービスの共同開発を推進しています。 グローバルな視点から製品開発を行い、お客様それぞれに最適なソリューションを提供しています。
当社は、各種展示会への積極的な参加を通じて、半導体洗浄装置の優れた性能を広く発信しています。 洗浄工程に課題を抱えるお客様に対しては、具体的なソリューションをご提案し、実機による効果を実感いただける取り組みを行っています。
ナノテック株式会社は、化合物半導体市場における精密洗浄装置の設計・開発を通じて、独自の技術革新と高精度なエンジニアリングを追求しています。 半導体および精密機器分野で培った豊富なノウハウをもとに、お客様の課題やニーズに応じた最適なオーダーメイドソリューションを提供。 常に新たな価値の創出に挑戦し、確かな技術力で産業の未来を支え続けます。
化合物半導体市場に向けた高精度な洗浄装置を設計・開発しています。
独自の技術革新と精密なエンジニアリングで、常に新しい可能性を追求します。
半導体・精密機器分野で培った経験を活かし、確かな技術力を提供します。
お客様の課題やニーズに合わせた最適なソリューションを柔軟にご提案します。
新たな価値の創出に挑み、産業の未来を支え続けます。
ナノテックの洗浄装置は、半導体製造におけるクオリティーと効果を大幅に向上させるための最適なソリューションです。
最高の技術とサービスで業界ビジネス成功の貢献へ導きます。
ラップ・研磨後ウエハの洗浄に使用されます
研磨後ウエハの洗浄に使用されます